ShanghaiTech University Knowledge Management System
一种垂直型氮化镓肖特基二极管器件及其制备方法 | |
翻译题名 | Vertical GaN Schottky diode device and preparation method thereof |
申请号 | CN201910401386.X |
2019-05-15 | |
公开(公告)号 | CN110137267A |
公开日期 | 2019-08-16 |
摘要 | 本发明了一种垂直型氮化镓肖特基二极管器件及其制备方法。所述器件包括阳极金属层、铝镓氮层、N型轻掺杂层、N型重掺杂层、缓冲层、衬底及阴极金属层。制备方法为:在衬底表面沉积一层缓冲层,在缓冲层上形成N型重掺杂层、N型轻掺杂层;刻蚀部分N型轻掺杂层,在N型轻掺杂层中刻蚀凹槽,并沉积铝镓氮层;继续沉积阳极金属层;在N型重掺杂层或衬底表面沉积阴极金属层。本发明提供的氮化镓肖特基二极管器件较现有的横向平面型和垂直型氮化镓肖特基二极管具有更强的抗击穿能力,该器件正向导通时,减少串联电阻进而减少发热,有利于防止热逃逸现象;当处于反向偏压条件下时,电场的峰值处于铝镓氮层中,增加器件反向耐压特性。 |
翻译摘要 | The invention relates to a vertical GaN Schottky diode device and a preparation method thereof. The device comprises an anode metal layer, an Al-Ga-N layer, an N-type lightly doped layer, an N-type heavily doped layer, a buffer layer, a substrate and a cathode metal layer. The preparation method includes the following steps : depositing a buffer layer on the surface of a substrate, and forming an N-type heavily doped layer and an N-type lightly doped layer on the buffer layer; etching part of the N-type lightly doped layer to form a groove in the N-type lightly doped layer, and depositing an Al-Ga-N layer; continuing to deposit an anode metal layer; and depositing a cathode metal layer on the surface of the N-type heavily doped layer or the substrate. The GaN Schottky diode device providedby the invention has stronger breakdown resistance than the existing transverse planar and vertical GaN Schottky diodes. When the device is forwardly switched on, the series resistance is reduced andless heat is emitted, which is beneficial to the prevention of the phenomenon of heat escape. When the device is under a reverse bias voltage condition, the peak of the electric field is in the Al-Ga-N layer, which increases the reverse voltage withstanding characteristic of the device. |
当前权利人 | 上海科技大学 |
专利代理人 | 翁若莹 ; 王文颖 |
代理机构 | 上海申汇专利代理有限公司 31001 |
专利申请人 | 上海科技大学 |
公开国别 | CN |
公开国别简称 | CN |
IPC 分类号 | H01L29//872 ; H01L21//329 ; H01L29//06 ; H01L29//20 |
CPC分类号 | H01L29//0603 ; H01L29//0684 ; H01L29//2003 ; H01L29//66212 ; H01L29//872 |
专利有效性 | 失效 |
专利类型 | 发明申请 |
专利类型字典 | 1 |
当前法律状态 | 撤回 |
简单同族 | CN110137267A |
扩展同族 | CN110137267A |
INPADOC 同族 | CN110137267A |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/127274 |
专题 | 信息科学与技术学院_硕士生 创意与艺术学院_行政办公室 信息科学与技术学院_PI研究组_邹新波组 |
作者单位 | 上海科技大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张玉良,邹新波,杨杨. 一种垂直型氮化镓肖特基二极管器件及其制备方法. CN201910401386.X[P]. 2019-05-15. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 |
个性服务 |
查看访问统计 |
谷歌学术 |
谷歌学术中相似的文章 |
[张玉良]的文章 |
[邹新波]的文章 |
[杨杨]的文章 |
百度学术 |
百度学术中相似的文章 |
[张玉良]的文章 |
[邹新波]的文章 |
[杨杨]的文章 |
必应学术 |
必应学术中相似的文章 |
[张玉良]的文章 |
[邹新波]的文章 |
[杨杨]的文章 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
修改评论
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。