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研究单元&专题
物质科学与技术学院 [2]
作者
俞跃辉 [1]
李静杰 [1]
周晓苓 [1]
文献类型
期刊论文 [2]
发表日期
2017 [1]
2016 [1]
出处
JOURNAL OF... [1]
MATERIALS ... [1]
语种
英语 [2]
资助项目
DOE Office... [1]
National S... [1]
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收录类别
EI [2]
SCI [2]
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Morphology improvement of SiC trench by inductively coupled plasma etching using Ni/Al2O3 bilayer mask
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2017, 卷号: 67, 页码: 104-109
作者:
Li, Jingjie
;
Cheng, Xinhong
;
Wang, Qian
;
Zheng, Li
;
Shen, Lingyan
Adobe PDF(915Kb)
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浏览/下载:734/3
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提交时间:2017/08/26
SiC
ICP etching
Ni/Al2O3 mask
Contamination
Micro-mask
Micro-trench
Dispersed SiC nanoparticles in Ni observed by ultra-small-angle X-ray scattering
期刊论文
JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY, 2016, 卷号: 49, 期号: 6, 页码: 2155-2160
作者:
Xie, R.
;
Ilavsky, J.
;
Huang, H. F.
;
Zhou, X. L.
;
Yang, C.
Adobe PDF(907Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:356/0
|
提交时间:2017/07/04
ultra-small-angle X-ray scattering (USAXS)
nanoparticle-reinforced metals
nuclear materials
Ni-SiC
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