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Characterization of AlN and AlScN film ICP etching for micro/ nano fabrication
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2021, 卷号: 242
作者:
Luo, Zhifang
;
Shao, Shuai
;
Wu, Tao
Adobe PDF(3189Kb)
|
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|
浏览/下载:453/0
|
提交时间:2021/06/04
ICP etching
Etching model
AlN
AlScN
Micro
Nano fabrication
Piezoelectric resonators
Aluminum nitride
Etching
Fabrication
III
V semiconductors
Inductively coupled plasma
Nitrides
Photoresists
Piezoelectricity
Resonators
Scandium compounds
Surface waves
AlN thin films
Aluminum nitride (AlN)
Contour
mode resonators
Lamb wave resonators
Micro /nano fabrications
Photoresist mask
Piezoelectric thin films
Quality factors
Optimization of AlN and AlScN Film ICP Etching
会议论文
2021 34TH IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS (MEMS 2021), ELECTR NETWORK, JAN 25-29, 2021
作者:
Zhifang Luo
;
Shuai Shao
;
Tao Wu
Adobe PDF(1221Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:472/1
|
提交时间:2021/07/23
Aluminum nitride
Etching
III
V semiconductors
Inductively coupled plasma
Mechanics
MEMS
Nitrides
Piezoelectricity
Resonators
Scandium compounds
Surface waves
Thin films
AlN films
Aluminum nitride (AlN)
Contour
mode resonators
Etching rate
ICP etching
Lamb wave resonators
Piezoelectric thin films
Quality factors
Morphology improvement of SiC trench by inductively coupled plasma etching using Ni/Al2O3 bilayer mask
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2017, 卷号: 67, 页码: 104-109
作者:
Li, Jingjie
;
Cheng, Xinhong
;
Wang, Qian
;
Zheng, Li
;
Shen, Lingyan
Adobe PDF(915Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:721/3
|
提交时间:2017/08/26
SiC
ICP etching
Ni/Al2O3 mask
Contamination
Micro-mask
Micro-trench
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