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Modeling of Hot Carrier Injection on Gate-Induced Drain Leakage in PDSOI nMOSFET
会议论文
2021 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON INTEGRATED CIRCUITS, TECHNOLOGIES AND APPLICATIONS, ICTA 2021, Zhuhai, China, November 24, 2021 - November 26, 2021
作者:
Qian, Yijun
;
Gao, Yuan
;
Shukla, Amit Kumar
;
Wu, Tao
;
Wei, Xing
Adobe PDF(2430Kb)
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浏览/下载:391/1
|
提交时间:2022/07/01
Drain current
MOSFET devices
Silicon on insulator technology
Threshold voltage
Condition
Gate induced drain leakage currents
Gate induced drain leakages
Hot carrier injection
Injection conditions
Interface traps
nMOSFETs
Silicon on insulator
Stress time
Tunneling
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