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  • 窦伟

    合作成果数：3

  • 刘赤县

    合作成果数：3

  • Dai, Ning

    合作成果数：2

  • Deng, Hui-Yong

    合作成果数：1

  • Deng, Huiyong

    合作成果数：1

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1. Characterization of deep-level defects in highly-doped silicon wit.. [218]
2. Ion implantation process and lattice damage mechanism of boron dop.. [75]
3. 晶体锗掺硼的离子注入工艺与晶格损伤机理研究（英文） [30]

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1. Ion implantation process and lattice damage mechanism of boron dop.. [2]
2. 晶体锗掺硼的离子注入工艺与晶格损伤机理研究（英文） [1]