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一种高精度大面积超薄镂空硬掩膜的制备方法 专利
申请号:CN202510049810.4，申请日期: 2025-04-29，类型:发明申请，状态:实质审查
发明人:  冯继成;  曹睿;  刘仕荣;  吴廷琪
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Enhanced photothermoelectric conversion in self-rolled tellurium photodetector with geometry-induced energy localization 期刊论文
LIGHT: SCIENCE AND APPLICATIONS, 2024, 卷号: 13, 期号: 1
作者:  Huang, Jiayuan;  You, Chunyu;  Wu, Binmin;  Wang, Yunqi;  Zhang, Ziyu
Adobe PDF(2969Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：364/2  |  提交时间：2024/07/19
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