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研究单元&专题
物质科学与技术学院 [1]
作者
罗云鸿 [1]
文献类型
期刊论文 [1]
发表日期
2025 [1]
出处
ADVANCED S... [1]
语种
英语 [1]
资助项目
EU[654360 ... [1]
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Nanoscale Resist-Free Patterning of Halogenated Zeolitic Imidazolate Frameworks by Extreme UV Lithography
期刊论文
ADVANCED SCIENCE, 2025
作者:
Li, Weina
;
Ma, Tianlei
;
Tang, Pengyi
;
Luo, Yunhong
;
Zhang, Hui
Adobe PDF(4265Kb)
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浏览/下载：32/1
|
提交时间：2025/03/18
EUV lithography
metal-organic frameworks
resist-free patterning
thin films
zeolitic imidazolate frameworks
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