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Development and Characterization of High Temperature Plasma Nitridation Process for Advanced CMOS Technology Application 会议论文
PROCEEDINGS OF INTERNATIONAL CONFERENCE ON ASIC, Kunming, China, October 26, 2021 - October 29, 2021
作者:  Xiaoxu Kang;  Xiaolan Zhong;  Zhangfa Chen;  Zhengkai Dao;  Qiang Zhang
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SiO2/Si上石墨烯薄膜的化学气相沉积法制备及其性能表征 期刊论文
半导体光电, 2019, 卷号: 40, 期号: 04, 页码: 513-516+522
作者:  刘喜锋;  张鹏博;  方小红;  陈小源
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