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研究单元&专题
物质科学与技术学院 [1]
作者
张家睿 [1]
文献类型
期刊论文 [1]
发表日期
2023 [1]
出处
MATERIALS ... [1]
语种
英语 [1]
资助项目
National N... [1]
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Strategic ... [1]
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300 mm integration of a scalable phase change material spacer by inductively coupled plasma etching
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2023, 卷号: 164
作者:
Fang, Wencheng
;
Zheng, Jia
;
Zhang, Jiarui
;
Li, Chengxing
;
Wang, Ruobing
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浏览/下载：328/1
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提交时间：2023/07/07
Efficiency
Inductively coupled plasma
Phase change materials
Phase change memory
Physical vapor deposition
Plasma etching
Anisotropic plasma etching
Aspect-ratio
Confined structures
Conformal deposition
Deposition technique
Heating efficiencies
Inductively coupled plasma etching
Phase-change memory
Physical vapour deposition
Reset currents
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