×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
统一认证登录
登录
中文版
|
English
上海科技大学知识管理系统
ShanghaiTech University Knowledge Management System
统一认证登录
登录
注册
ALL
ORCID
题名
作者
发表日期
关键词
文献类型
DOI
出处
存缴日期
收录类别
出版者
学习讨论厅
图片搜索
粘贴图片网址
首页
研究单元&专题
作者
文献类型
学科分类
知识图谱
知识整合
学习讨论厅
在结果中检索
研究单元&专题
信息科学与技术学院 [1]
物质科学与技术学院 [1]
大科学中心 [1]
作者
耿浩 [1]
王涵 [1]
李靖斌 [1]
王者风 [1]
文献类型
会议论文 [1]
期刊论文 [1]
发表日期
2025 [1]
2024 [1]
出处
JOURNAL OF... [1]
PROCEEDING... [1]
语种
英语 [2]
资助项目
资助机构
收录类别
EI [2]
CPCI-S [1]
SCI [1]
状态
已发表 [2]
×
知识图谱
KMS
反馈留言
浏览/检索结果:
共2条,第1-2条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
期刊影响因子升序
期刊影响因子降序
提交时间升序
提交时间降序
WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
作者升序
作者降序
Computational Study of Organotin Oxide Systems for Extreme Ultraviolet Photoresist
期刊论文
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY A, 2025, 卷号: 129, 期号: 5, 页码: 1420-1428
作者:
Li, Jingbin
;
Wang, Zhefeng
;
Wang, Han
Adobe PDF(3285Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:74/10
|
提交时间:2025/02/12
Carrier concentration
Europium alloys
Extreme ultraviolet lithography
Ionization potential
Negative ions
Photoresists
Tin alloys
Bonding energies
Computational studies
Extreme ultra-violet lithographies
Extreme Ultraviolet
Organic ligands
Organotin oxide
Oxide systems
Oxo-clusters
Performance
Stringent requirement
Open-Source Differentiable Lithography Imaging Framework
会议论文
PROCEEDINGS OF SPIE - THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, San Jose, CA, United states, February 26, 2024 - February 29, 2024
作者:
Chen, Guojin
;
Geng, Hao
;
Yu, Bei
;
Pan, David Z.
Adobe PDF(873Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:262/1
|
提交时间:2024/05/24
HTTP
Integrated circuits
Open source software
Photolithography
Program processors
Semiconductor device manufacture
Computational lithographies
Critical technologies
Differentiable programming
Electronic industries
Imaging modeling
Machine-learning
Open-source
Production cost
Semiconductor manufacturing
Wireless communications
首页
上一页
1
下一页
末页