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| 一种拐角处或交叉处图案修正方法 专利 申请号:CN202510402677.6,申请日期: 2025-07-04,类型:发明申请,状态:公开 发明人: 冯继成 ; 殷钰祥
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| 一种制造三维纳米孔洞的方法及其应用 专利 申请号:CN202510402672.3,申请日期: 2025-07-04,类型:发明申请,状态:公开 发明人: 冯继成 ; 殷钰祥
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| 一种微纳尺度的增材制造方法及图案化方法 专利 申请号:WOCN23143382,申请日期: 2025-07-03,类型:发明申请,状态:未进入国家阶段-PCT有效期内 发明人: Feng, Jicheng ; Yin, Yuxiang ; Liu, Shirong
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| 基于力反馈的接触式调平调零系统、控制方法以及终端 专利 申请号:CN202311630242.4,申请日期: 2025-05-30,类型:发明申请,状态:实质审查 发明人: 冯继成 ; 刘仕荣
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| 一种高精度大面积超薄镂空硬掩膜的制备方法 专利 申请号:CN202510049810.4,申请日期: 2025-04-29,类型:发明申请,状态:实质审查 发明人: 冯继成 ; 曹睿 ; 刘仕荣 ; 吴廷琪
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| Faraday Lithography 期刊论文 NANO LETTERS, 2025, 卷号: 25, 期号: 20, 页码:
8129-8135 作者: Yin, Yuxiang ; Liu, Bingyan ; Chen, Yanru; Zhao, Jianguo; Feng, Jicheng
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| Wafer-Scale Nanoprinting of 3D Interconnects beyond Cu 期刊论文 ACS NANO, 2025, 卷号: 19, 期号: 18, 页码:
17578-17588 作者: Yin, Yuxiang ; Liu, Bingyan ; Zhang, Yueqi ; Han, Yaochen ; Liu, Qiling
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| 目标粒子的获取方法、装置、粒子的确定方法 专利 申请号:CN202311319061.X,申请日期: 2025-04-11,类型:发明申请,状态:公开 发明人: 冯继成 ; 韩耀晨
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| 基于均匀大面积打印的纳米3D打印装置及方法 专利 申请号:CN202510035558.1,申请日期: 2025-04-11,类型:发明申请,状态:实质审查 发明人: 冯继成 ; 刘仕荣
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| Nanoscale 3D Printing for Empowering Future Nanodevices 期刊论文 ADVANCED MATERIALS TECHNOLOGIES, 2025 作者: Yin, Yuxiang ; Liu, Bingyan ; Han, Yaochen ; Liu, Qiling ; Kou, Jiehao
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