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2022 CHINA SEMICONDUCTOR T...(2)
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2023(1)
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合作作者[TOP 5]
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Donghua Liu
合作成果数:2
Wensheng Qian
合作成果数:2
Haiyang Ling
合作成果数:1
合作作者
Donghua Liu
合作成果数:2
Wensheng Qian
合作成果数:2
Haiyang Ling
合作成果数:1
张笑铭
硕士生
所在学院:
信息科学与技术学院
职务:
--
研究方向:
备注:
--
科研成果
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[1]
张笑铭. 面向bcd工艺的100v浅槽隔离ldmos设计与可靠性研究[D]. 上海. 上海科技大学. 2023-05-29.
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[2]
Xiaoming Zhang,Donghua Liu,Haiyang Ling,et al. Improve The On-resistance For 80v Nldmos With Sti Technology In 0.18 Um Bcd Process[C]. 2022 China Semiconductor Technology International Conference, Cstic 2022.Institute Of Electrical And Electronics Engineers Inc.2022-01-01.
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[3]
Xiaoming Zhang,Donghua Liu,Wensheng Qian. Study Of The Degradation In Ldmos With Sti Technology And Improve The Reliability With Several Methods[C]. 2022 China Semiconductor Technology International Conference, Cstic 2022.Institute Of Electrical And Electronics Engineers Inc.2022-01-01.
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