×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
统一认证登录
登录
中文版
|
English
上海科技大学知识管理系统
ShanghaiTech University Knowledge Management System
统一认证登录
登录
注册
ALL
ORCID
题名
作者
发表日期
关键词
文献类型
DOI
出处
存缴日期
收录类别
出版者
学习讨论厅
图片搜索
粘贴图片网址
首页
研究单元&专题
作者
文献类型
学科分类
知识图谱
知识整合
学习讨论厅
反馈留言
个人主页
个人信息
个人简介
科研成果
期刊论文(4)
来源
APPLIED PHYSICS EXPRESS(1)
MATERIALS LETTERS(1)
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND ...(1)
人工晶体学报(1)
收录类别
EI(4)
SCI(3)
SCIE(3)
北大核心(1)
访问统计
来源
APPLIED PHYSICS EXPRESS(1)
MATERIALS LETTERS(1)
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND ...(1)
人工晶体学报(1)
发表日期
2025(2)
2021(2)
关键词云
More»
成果统计
More»
×
知识图谱
合作作者[TOP 5]
点击查看合作网络
徐科
合作成果数:3
张育民
合作成果数:3
王建峰
合作成果数:3
刘伟
合作成果数:2
孙远航
合作成果数:2
合作作者
徐科
合作成果数:3
张育民
合作成果数:3
王建峰
合作成果数:3
刘伟
合作成果数:2
孙远航
合作成果数:2
朱启志
合作成果数:2
Chen, Jihu
合作成果数:1
Wang, Jianfeng
合作成果数:1
Zhang, Yumin
合作成果数:1
徐科
合作成果数:1
易觉民
合作成果数:1
薛军帅
合作成果数:1
邵凯恒
合作成果数:1
访问统计
总访问量
565
访问来源
内部: 2
外部: 563
国内: 469
国外: 96
年访问量
95
访问来源
内部: 2
外部: 93
国内: 83
国外: 12
月访问量
0
访问来源
内部: 0
外部: 0
国内: 0
国外: 0
访问量
访问量
1.
GaN单晶衬底上同质外延界面杂质的研究
[444]
2.
HVPE growth of bulk GaN with high conductivity for vertical device..
[418]
3.
Unintentional Fe incorporation in the homo-epitaxy of GaN on Fe-do..
[76]
4.
Ta-based Au-free and low annealing temperature ohmic contacts on G..
[44]
下载量
1.
Unintentional Fe incorporation in the homo-epitaxy of GaN on Fe-do..
[7]
2.
HVPE growth of bulk GaN with high conductivity for vertical device..
[6]
3.
Ta-based Au-free and low annealing temperature ohmic contacts on G..
[3]
4.
GaN单晶衬底上同质外延界面杂质的研究
[1]
科研成果
Items
Views
Downloads
TC[WOS]
TC[CSCD]
H-index
排序方式:
按发表日期降序
按发表日期升序
按WOS被引频次降序
按期刊影响因子降序
正在努力地加载数据中,请稍候……
没有找到匹配的记录
每页显示
10
0
条
‹
›