一种单斜晶系晶体材料及其制备方法
申请号CN202310683283.3
2024-12-10
公开(公告)号CN119101993A
公开日期2024-12-10
摘要本发明公开一种单斜结构TiSe3晶体及其制备方法,属于新材料制备技术领域,晶体的晶胞参数为beta=98.10(2)°,晶体的空间群为群为P21//m。本发明以单质钛与硒为原料,经混合、压块、组装、高温高压合成、冷却卸压的工艺过程最终制得单斜相TiSe3晶体,其中Ti元素的原子百分比为25.4~25.7%,所述Se元素的原子百分比为74.6~74.3%,制备方法简单,制备周期短,且证实为TiSe3晶体为单相,无杂质及孪晶,另外该晶体表现出半导体导电行为,表明样品可以作为半导体器件的基材,且其带隙与已知优越半导体材料的带隙近似,具有良好的半导体应用前景。
当前权利人上海科技大学
专利代理人许亦琳 ; 余明伟
代理机构上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
专利申请人上海科技大学
公开国别中国
公开国别简称CN
IPC 分类号C30B29//46; C30B29//66; C30B1//12
专利有效性审中
专利类型发明申请
专利类型字典1
当前法律状态实质审查
简单同族CN119101993A
扩展同族CN119101993A
INPADOC 同族CN119101993A
文献类型专利
条目标识符https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/455156
专题物质科学与技术学院_PI研究组_郭艳峰组
物质科学与技术学院_博士生
作者单位
上海科技大学
推荐引用方式
GB/T 7714
于振海,叶运观,袁健,等. 一种单斜晶系晶体材料及其制备方法. CN202310683283.3[P]. 2024-12-10.
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