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一种齿状冷缩量吸收结构、及高次模吸收器
申请号CN202320229643.8
2023-08-29
公开(公告)号CN219612109U
公开日期2023-08-29
摘要

本实用新型提供一种齿状冷缩量吸收结构、及高次模吸收器;包括内环、中环、以及外环,所述内环外圆与中环内圆连接,所述中环外圆与外环内圆连接;所述中环外圆和中环内圆之间设置有齿状结构,所述齿状结构用于补偿外环、中环的冷缩形变量;所述外环中开设有流体流道,所述流体流道中通入冷却流体,所述外环中通入冷却流体时,所述外环、中环、内环均冷缩形变。本实用新型设置有齿状结构,利用齿状结构对应力形变的补偿原理,陶瓷制成的内环在低温下冷缩率小形变小,无氧铜制成的中环、外环在低温下冷缩率大形变大,齿状结构可以起到增大形变补偿量,减小应力的作用,大大提高了高次模吸收器的稳定性和寿命。

当前权利人上海科技大学
专利代理人段成鑫
代理机构上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
专利申请人上海科技大学
公开国别CN
公开国别简称CN
IPC 分类号H05H7//22 ; H05H9//00
专利有效性有效
专利类型实用新型
专利类型字典2
当前法律状态授权
简单同族CN219612109U
扩展同族CN219612109U
INPADOC 同族CN219612109U
文献类型专利
条目标识符https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/323611
专题大科学中心_公共科研平台_变革性技术研发部
硬x射线自由电子激光装置项目
作者单位
上海科技大学
推荐引用方式
GB/T 7714
黄亚威,刘以勇,殷立新,等. 一种齿状冷缩量吸收结构、及高次模吸收器. CN202320229643.8[P]. 2023-08-29.
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