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| Periodic artifacts generation and suppression in X-ray ptychography | |
| 2023-05-05 | |
| 发表期刊 | PHOTONICS (IF:2.1[JCR-2023],2.1[5-Year]) |
| ISSN | 2304-6732 |
| 卷号 | 10期号:5页码:532 |
| 发表状态 | 已发表 |
| DOI | 10.3390/photonics10050532 |
| URL | 查看原文 |
| 收录类别 | SCI |
| 引用统计 | 正在获取...
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| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/292217 |
| 专题 | 物质科学与技术学院 物质科学与技术学院_博士生 |
| 通讯作者 | Zijian Xu; Renzhong Tai |
| 作者单位 | 1.Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai Advanced Research Institute, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201204, China 2.Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China 3.School of Physical Science and Technology, Shanghai Tech University, Shanghai 201210, China 4.University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China 5.Shenzhen Institute of Advanced Science Facilities, Shenzhen 518107, China |
| 第一作者单位 | 物质科学与技术学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Shilei Liu,Zijian Xu,Zhengjiang Xing,et al. Periodic artifacts generation and suppression in X-ray ptychography[J]. PHOTONICS,2023,10(5):532. |
| APA | Shilei Liu.,Zijian Xu.,Zhengjiang Xing.,Xiangzhi Zhang.,Ruoru Li.,...&Renzhong Tai.(2023).Periodic artifacts generation and suppression in X-ray ptychography.PHOTONICS,10(5),532. |
| MLA | Shilei Liu,et al."Periodic artifacts generation and suppression in X-ray ptychography".PHOTONICS 10.5(2023):532. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| photonics-2336544.do（7813KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 限制开放 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | |
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