Grain boundary boosting the thermal stability of Pt/CeO2 thin films (Sep, 10.1007/s12274-022-4899-9, 2022)
2022-09-01
出处NANO RESEARCH
摘要The name of the third author in original paper was unfortunately misspelled. It should be "Xiangchen Hu", instead of "Xiangcheng Hu". © 2022, Tsinghua University Press.
ISSN1998-0124
出版者TSINGHUA UNIV PRESS
DOI10.1007/s12274-022-5088-6
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语种英语
卷号16
期号2
页码3603
收录类别SCI ; SCIE ; SCOPUS ; EI
WOS类目Chemistry, Physical ; Nanoscience & Nanotechnology ; Materials Science, Multidisciplinary ; Physics, Applied
WOS研究方向Chemistry ; Science & Technology - Other Topics ; Materials Science ; Physics
EI入藏号20230813629447
WOS记录号WOS:000864244500002
原始文献类型Erratum (ER)
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文献类型其他
条目标识符https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/238175
专题物质科学与技术学院_博士生
物质科学与技术学院_PI研究组_杨永组
物质科学与技术学院_PI研究组_杨波组
物质科学与技术学院_PI研究组_杨楠组
物质科学与技术学院_PI研究组_于奕组
物质科学与技术学院_硕士生
通讯作者Aruta, Carmela; Yang, Nan
作者单位
1.ShanghaiTech Univ, Sch phys sci & technol, Electrochem thin film Grp, Shanghai 201210, Peoples R China
2.Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Microsyst & Informat Technol, State Key Lab Funct Mat Informat, Shanghai 200050, Peoples R China
3.ShanghaiTech Univ, Sch phys sci & technol, Shanghai 201210, Peoples R China
4.TASC Natl Lab, CNR IOM, I-34149 Trieste, Italy
5.CNR SPIN, UOS Roma, Area Ric Tor Vergata, I-00133 Rome, Italy
第一作者单位物质科学与技术学院
通讯作者单位物质科学与技术学院
第一作者的第一单位物质科学与技术学院
推荐引用方式
GB/T 7714
Wang, Luyao,Li, Xiaobao,Hu, Xiangchen,et al. Grain boundary boosting the thermal stability of Pt/CeO2 thin films (Sep, 10.1007/s12274-022-4899-9, 2022). 2022-09-01.
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