Grain boundary boosting the thermal stability of Pt/CeO2 thin films (Sep, 10.1007/s12274-022-4899-9, 2022)

doi:10.1007/s12274-022-5088-6

	Grain boundary boosting the thermal stability of Pt/CeO2 thin films (Sep, 10.1007/s12274-022-4899-9, 2022)
	2022-09-30
	Wang, Luyao1 ; Li, Xiaobao 2; Hu, Xiangchen3 ; Chen, Shuyue3 ; Qiu, Zhehao3 ; Wang, Yifan1 ; Zhang, Hui 2; Yu, Yi3 ; Yang, Bo3 ; Yang, Yong3 ; Orgiani, Pasquale 4; Aruta, Carmela 5; Yang, Nan1
出处	NANO RESEARCH
摘要	The name of the third author in original paper was unfortunately misspelled. It should be "Xiangchen Hu", instead of "Xiangcheng Hu". © 2022, Tsinghua University Press.
ISSN	1998-0124
出版者	TSINGHUA UNIV PRESS
DOI	10.1007/s12274-022-5088-6
URL	查看原文
语种	英语
卷号	16
收录类别	SCI ; SCIE ; SCOPUS ; EI
WOS类目	Chemistry, Physical ; Nanoscience & Nanotechnology ; Materials Science, Multidisciplinary ; Physics, Applied
WOS研究方向	Chemistry ; Science & Technology - Other Topics ; Materials Science ; Physics
EI入藏号	20230813629447
WOS记录号	WOS:000864244500002
原始文献类型	Erratum (ER)
引用统计	正在获取...
文献类型	其他
条目标识符	https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/238175
专题	物质科学与技术学院_博士生物质科学与技术学院_PI研究组_杨永组物质科学与技术学院_PI研究组_杨波组物质科学与技术学院_PI研究组_杨楠组物质科学与技术学院_PI研究组_于奕组物质科学与技术学院_硕士生
通讯作者	Aruta, Carmela; Yang, Nan
作者单位	1.ShanghaiTech Univ, Sch phys sci & technol, Electrochem thin film Grp, Shanghai 201210, Peoples R China 2.Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Microsyst & Informat Technol, State Key Lab Funct Mat Informat, Shanghai 200050, Peoples R China 3.ShanghaiTech Univ, Sch phys sci & technol, Shanghai 201210, Peoples R China 4.TASC Natl Lab, CNR IOM, I-34149 Trieste, Italy 5.CNR SPIN, UOS Roma, Area Ric Tor Vergata, I-00133 Rome, Italy
第一作者单位	物质科学与技术学院
通讯作者单位	物质科学与技术学院
第一作者的第一单位	物质科学与技术学院
推荐引用方式 GB/T 7714	Wang, Luyao,Li, Xiaobao,Hu, Xiangchen,et al. Grain boundary boosting the thermal stability of Pt/CeO2 thin films (Sep, 10.1007/s12274-022-4899-9, 2022). 2022-09-30.