ShanghaiTech University Knowledge Management System
Review of 3D topological insulator thin-film growth by molecular beam epitaxy and potential applications | |
2013 | |
发表期刊 | PHYSICA STATUS SOLIDI-RAPID RESEARCH LETTERS |
ISSN | 1862-6254 |
卷号 | 7期号:1-2页码:50-63 |
发表状态 | 已发表 |
DOI | 10.1002/pssr.201307003 |
关键词 | Topological Insulators Molecular Beam Epitaxy Thin Films |
学科领域 | Physics, Condensed Matter |
URL | 查看原文 |
收录类别 | SCI |
语种 | 英语 |
WOS记录号 | WOS:000318068800006 |
出版者 | WILEY-V C H VERLAG GMBH |
引用统计 | |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/1236 |
专题 | 个人在本单位外知识产出 |
作者单位 | Univ Calif Los Angeles, Dept Elect Engn, Los Angeles, CA 90095 USA |
推荐引用方式 GB/T 7714 | He, Liang,Kou, Xufeng,Wang, Kang L.. Review of 3D topological insulator thin-film growth by molecular beam epitaxy and potential applications[J]. PHYSICA STATUS SOLIDI-RAPID RESEARCH LETTERS,2013,7(1-2):50-63. |
APA | He, Liang,Kou, Xufeng,&Wang, Kang L..(2013).Review of 3D topological insulator thin-film growth by molecular beam epitaxy and potential applications.PHYSICA STATUS SOLIDI-RAPID RESEARCH LETTERS,7(1-2),50-63. |
MLA | He, Liang,et al."Review of 3D topological insulator thin-film growth by molecular beam epitaxy and potential applications".PHYSICA STATUS SOLIDI-RAPID RESEARCH LETTERS 7.1-2(2013):50-63. |
条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 |
修改评论
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。