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Role of the carrier gas flow rate in monolayer MoS2 growth by modified chemical vapor deposition 期刊论文
NANO RESEARCH, 2017, 卷号: 10, 期号: 2, 页码: 643-651
作者:  Liu, Hengchang;  Zhu, Yuanhu;  Meng, Qinglong;  Lu, Xiaowei;  Kong, Shuang
Adobe PDF(1640Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：466/1  |  提交时间：2017/07/04
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