×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
统一认证登录
登录
中文版
|
English
上海科技大学知识管理系统
ShanghaiTech University Knowledge Management System
统一认证登录
登录
注册
ALL
ORCID
题名
作者
发表日期
关键词
文献类型
DOI
出处
存缴日期
收录类别
出版者
学习讨论厅
图片搜索
粘贴图片网址
首页
研究单元&专题
作者
文献类型
学科分类
知识图谱
知识整合
学习讨论厅
在结果中检索
研究单元&专题
信息科学与技术学院 [3]
物质科学与技术学院 [3]
作者
吴涛 [2]
乔山 [1]
李昕欣 [1]
王庶民 [1]
宋志棠 [1]
陆卫 [1]
更多...
文献类型
期刊论文 [4]
会议论文 [1]
发表日期
2024 [2]
2023 [1]
2022 [1]
2018 [1]
出处
2022 IEEE ... [1]
APPLIED SU... [1]
MATERIALS ... [1]
MICROMACHI... [1]
SEMICONDUC... [1]
语种
英语 [5]
资助项目
Creative R... [1]
National K... [1]
National K... [1]
National N... [1]
National N... [1]
Science an... [1]
更多...
资助机构
收录类别
EI [4]
SCI [4]
CPCI-S [1]
SCIE [1]
状态
已发表 [5]
×
知识图谱
KMS
反馈留言
浏览/检索结果:
共5条,第1-5条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
提交时间升序
提交时间降序
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
期刊影响因子升序
期刊影响因子降序
Understanding the mechanism of plasma etching of carbon-doped GeSbTe phase change material
期刊论文
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2024, 卷号: 671
作者:
Liu, Jin
;
Zhang, Jiarui
;
Wan, Ziqi
;
Chen, Yuqing
;
Zheng, Jia
Adobe PDF(2695Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:470/4
|
提交时间:2024/08/09
Antimony compounds
Bromine compounds
Cleaning
Germanium compounds
Oxygen
Phase change memory
Tellurium compounds
300 mm wafers
Carbon-doped gesbte
Chemical damages
Cleaning process
Etching damages
High temperature process
Phase-change memory
Physical damages
Pitch line
Thermal crosstalk
Piezoelectric Micromachined Ultrasonic Transducers with Micro-Hole Inter-Etch and Sealing Process on (111) Silicon Wafer
期刊论文
MICROMACHINES, 2024, 卷号: 15, 期号: 4
作者:
Wang, Yunhao
Adobe PDF(5053Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:429/55
|
提交时间:2024/05/11
Aluminum nitride
Anisotropic etching
Anisotropy
Corrosion
Cost effectiveness
Diaphragms
Electrodes
Fabrication
III-V semiconductors
Natural frequencies
Piezoelectricity
Silicon wafers
Ultrasonic applications
(111) wafer
Anisotropic wet etching
Cavity structure
Micro holes
Micromachined ultrasound transducers
Piezoelectric
Piezoelectric micromachined ultrasound transducer array
The scar-free 'MIS' process
Three-fold symmetry
Ultrasound transducer arrays
The study and optimization of ICP deep etching at a low-temperature for InP solid-immersion metalens fabrication
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2023, 卷号: 166
作者:
Zhu, Yicheng
;
Wang, Wenjuan
;
Zhou, Min
;
Qu, Huidan
;
Li, Guanhai
Adobe PDF(6984Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:482/1
|
提交时间:2023/07/28
Aspect ratio
Chlorine compounds
Etching
Fabrication
III-V semiconductors
Inductively coupled plasma
Optimization
Photodetectors
Photons
Semiconducting indium
Semiconducting indium gallium arsenide
Semiconducting indium phosphide
Temperature
Deep etching
Etching process
High aspect ratio structure fabrication
High aspect ratio structures
Inductively coupled plasma deep etching
Inductively-coupled plasma
InP based
Lows-temperatures
MetaLens
Structure fabrication
PMUT Structure Design with a Scar-Free Minimally Invasive Surgery Process on (111) Silicon Wafer
会议论文
2022 IEEE INTERNATIONAL ULTRASONICS SYMPOSIUM (IEEE IUS), null,Venice,ITALY, OCT 10-13, 2022
作者:
Wu, Sheng
;
Li, Wei
;
Shao, Shuai
;
Yang, Heng
;
Wu, Tao
Adobe PDF(372Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:530/4
|
提交时间:2023/02/10
PMUT array
the scar-free 'MIS' process
(111) wafer
anisotropic wet etching
three-fold symmetry
A comparative study of selective dry and wet etching of germanium tin (Ge1-xSnx) on germanium
期刊论文
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY, 2018, 卷号: 33, 期号: 8
作者:
Han, Yi
;
Li, Yaoyao
;
Song, Yuxin
;
Chi, Chaodan
;
Zhang, Zhenpu
Adobe PDF(1895Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:560/1
|
提交时间:2018/08/09
GeSn
etching process
microstructure
首页
上一页
1
下一页
末页