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Computational Study of Organotin Oxide Systems for Extreme Ultraviolet Photoresist
期刊论文
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY A, 2025, 卷号: 129, 期号: 5, 页码: 1420-1428
作者:
Li, Jingbin
;
Wang, Zhefeng
;
Wang, Han
Adobe PDF(3285Kb)
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提交时间:2025/02/12
Carrier concentration
Europium alloys
Extreme ultraviolet lithography
Ionization potential
Negative ions
Photoresists
Tin alloys
Bonding energies
Computational studies
Extreme ultra-violet lithographies
Extreme Ultraviolet
Organic ligands
Organotin oxide
Oxide systems
Oxo-clusters
Performance
Stringent requirement
A comprehensive study on three typical photoacid generators using photoelectron spectroscopy and ab initio calculations
期刊论文
JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS, 2024, 卷号: 161, 期号: 5
作者:
Jiang, Yanrong
;
Cao, Wenjin
;
Hu, Zhubin
;
Yue, Zhongyao
;
Bai, Chunyuan
Adobe PDF(5605Kb)
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提交时间:2024/08/23
Continuum mechanics
Excited states
Photoelectron spectroscopy
Photolysis
Photoresists
Solvents
193 nm photoresists
Ab initio calculations
Molecular levels
P-toluenesulfonates
Performance
Photoacid generators
Rational design
Reaction energy
Red shift
Triflates
Progress on ultrafast laser lithography of large-scale lithium niobate integrated photonics
期刊论文
KEXUE TONGBAO/CHINESE SCIENCE BULLETIN, 2024, 卷号: 69, 期号: 12, 页码: 1528-1539
作者:
Huang, Jinxin
;
Chen, Jinming
;
Liu, Zhaoxiang
;
Song, Lvbin
;
Wang, Guanhua
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提交时间:2024/05/11
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Thin-films
Characterization of AlN and AlScN film ICP etching for micro/ nano fabrication
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2021, 卷号: 242
作者:
Luo, Zhifang
;
Shao, Shuai
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Wu, Tao
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提交时间:2021/06/04
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