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Computational Study of Organotin Oxide Systems for Extreme Ultraviolet Photoresist
期刊论文
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY A, 2025, 卷号: 129, 期号: 5, 页码: 1420-1428
作者:
Li, Jingbin
;
Wang, Zhefeng
;
Wang, Han
Adobe PDF(3285Kb)
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提交时间:2025/02/12
Carrier concentration
Europium alloys
Extreme ultraviolet lithography
Ionization potential
Negative ions
Photoresists
Tin alloys
Bonding energies
Computational studies
Extreme ultra-violet lithographies
Extreme Ultraviolet
Organic ligands
Organotin oxide
Oxide systems
Oxo-clusters
Performance
Stringent requirement
Latest developments in EUV photoresist evaluation capability at Shanghai Synchrotron Radiation Facility
期刊论文
NUCLEAR SCIENCE AND TECHNIQUES, 2023, 卷号: 34, 期号: 12
作者:
Li, Zhen-Jiang
;
Qi, Cheng-Hang
;
Li, Bei-Ning
;
Yang, Shu-Min
;
Zhao, Jun
Adobe PDF(2516Kb)
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浏览/下载:237/1
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提交时间:2023/12/22
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