消息
×
loading..
×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
统一认证登录
登录
中文版
|
English
上海科技大学知识管理系统
ShanghaiTech University Knowledge Management System
统一认证登录
登录
注册
ALL
ORCID
题名
作者
发表日期
关键词
文献类型
DOI
出处
存缴日期
收录类别
出版者
学习讨论厅
图片搜索
粘贴图片网址
首页
研究单元&专题
作者
文献类型
学科分类
知识图谱
知识整合
学习讨论厅
在结果中检索
研究单元&专题
物质科学与技术学院 [4]
作者
陶虎 [1]
张石磊 [1]
戚乘航 [1]
周致楷 [1]
文献类型
期刊论文 [3]
会议论文 [1]
发表日期
2024 [1]
2023 [1]
2020 [2]
出处
ADVANCED M... [1]
JOURNAL OF... [1]
NUCLEAR SC... [1]
PROCEEDING... [1]
语种
英语 [4]
资助项目
Beijing Na... [1]
EPSRC[EP/N... [1]
Fujian Inn... [1]
Internatio... [1]
K. C. Wong... [1]
Key Resear... [1]
更多...
资助机构
收录类别
EI [4]
SCI [2]
SCIE [2]
×
知识图谱
KMS
反馈留言
浏览/检索结果:
共4条,第1-4条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
提交时间升序
提交时间降序
期刊影响因子升序
期刊影响因子降序
题名升序
题名降序
作者升序
作者降序
发表日期升序
发表日期降序
WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
A strong-field THz light source based on coherent transition radiation at the Shanghai soft X-ray free-electron laser facility
会议论文
PROCEEDINGS OF SPIE - THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Xi'an, China, November 16, 2023 - November 19, 2023
作者:
Kang, Yin
;
Zhou, Zhikai
;
Zhang, Kaiqing
;
Feng, Chao
Adobe PDF(645Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:187/0
|
提交时间:2024/08/09
Electron beam lithography
Electrons
Free electron lasers
Laser pulses
Laser radiation
Terahertz waves
Beam manipulations
Coherent Transition Radiation
Electron beam manipulation
Electron-beam
Frequency beating
Optical beat node
Optical-
Strong field
Strong-field THz radiation
THz radiation
Latest developments in EUV photoresist evaluation capability at Shanghai Synchrotron Radiation Facility
期刊论文
NUCLEAR SCIENCE AND TECHNIQUES, 2023, 卷号: 34, 期号: 12
作者:
Li, Zhen-Jiang
;
Qi, Cheng-Hang
;
Li, Bei-Ning
;
Yang, Shu-Min
;
Zhao, Jun
Adobe PDF(2516Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:234/1
|
提交时间:2023/12/22
Aspect ratio
Electron beam lithography
Electron beams
Extreme ultraviolet lithography
Hydrogen
Masks
Synchrotron radiation
Synchrotrons
Beam-lines
Electron-beam lithography
Extreme ultra-violet lithographies
Extreme Ultraviolet
Extreme ultraviolet photoresist
Grating
High resolution
Hydrogen silsesquioxane
Interference lithography
Shanghai synchrotron radiation facilities
Electron Beam Lithography of Magnetic Skyrmions
期刊论文
ADVANCED MATERIALS, 2020
作者:
Guang, Yao
;
Peng, Yong
;
Yan, Zhengren
;
Liu, Yizhou
;
Zhang, Junwei
Adobe PDF(1457Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:285/2
|
提交时间:2020/09/15
electron beam lithography
magnetic skyrmions
skyrmion lattices
transmission electron microscopy
Nanomanufacturing of biopolymers using electron and ion beams
期刊论文
JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING, 2020, 卷号: 30, 期号: 3
作者:
Jiang, Jianjuan
;
Qin, Nan
;
Tao, Tiger H.
Adobe PDF(3486Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:508/0
|
提交时间:2020/04/12
bionanomanufacturing
proteins
electron beam lithography
ion beam lithography
首页
上一页
1
下一页
末页