×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
统一认证登录
登录
中文版
|
English
上海科技大学知识管理系统
ShanghaiTech University Knowledge Management System
统一认证登录
登录
注册
ALL
ORCID
题名
作者
发表日期
关键词
文献类型
DOI
出处
存缴日期
收录类别
出版者
学习讨论厅
图片搜索
粘贴图片网址
首页
研究单元&专题
作者
文献类型
学科分类
知识图谱
知识整合
学习讨论厅
在结果中检索
研究单元&专题
物质科学与技术学院 [2]
作者
朱健强 [2]
梁尚娟 [1]
刘伯勋 [1]
文献类型
期刊论文 [2]
发表日期
2020 [1]
2017 [1]
出处
中国激光 [2]
语种
中文 [2]
资助项目
资助机构
收录类别
CSCD [2]
EI [2]
北大核心 [2]
状态
已发表 [1]
正式接收 [1]
×
知识图谱
KMS
反馈留言
浏览/检索结果:
共2条,第1-2条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
发表日期升序
发表日期降序
题名升序
题名降序
期刊影响因子升序
期刊影响因子降序
提交时间升序
提交时间降序
WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响
期刊论文
中国激光, 2020, 卷号: 47, 期号: 09, 页码: 0903002
作者:
刘伯勋
;
焦翔
;
谭小红
;
朱健强
Adobe PDF(739Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:537/14
|
提交时间:2020/07/01
材料
化学机械抛光
磷酸盐激光钕玻璃
阴离子表面活性剂
材料去除率
表面粗糙度
改性抛光剂对光学玻璃抛光质量的影响
期刊论文
中国激光, 2017, 卷号: 44, 期号: 12, 页码: 130-136
作者:
梁尚娟
;
汤文龙
;
焦翔
;
朱健强
Adobe PDF(3480Kb)
|
收藏
|
浏览/下载:261/0
|
提交时间:2022/12/14
材料
表面活性剂
化学机械抛光
光学玻璃
材料去除率
表面粗糙度
首页
上一页
1
下一页
末页