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Optimized Cryo-CMOS Technology with VTH<0.2V and Ion>1.2mA/µm for High-Peformance Computing 预印本
2024
作者:  He, Chang;  Xin, Yue;  Yang, Longfei;  Wang, Zewei;  Tang, Zhidong
收藏  |  浏览/下载：92/0  |  提交时间：2024/12/17
Investigation of RS Sensitivity to Tilt Angle on 300MM High Current/Ion Implanter 会议论文
2022 IEEE 16TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SOLID-STATE & INTEGRATED CIRCUIT TECHNOLOGY (ICSICT), Nangjing, China, 25-28 Oct. 2022
作者:  Xiaoxu Kang;  Zhenghui Chu;  Jiwei Liu;  Xiaolan Zhong;  Min Zhang
Adobe PDF(4055Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：158/0  |  提交时间：2024/03/29
Characterization of Ferroelectric Al0.7Sc0.3N Thin Film on Pt and Mo Electrodes 期刊论文
MICROMACHINES, 2022, 卷号: 13, 期号: 10
作者:  Nie, Ran;  Shao, Shuai;  Luo, Zhifang;  Kang, Xiaoxu;  Wu, Tao
Adobe PDF(1091Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：392/1  |  提交时间：2022/11/08
Development and Characterization of High Temperature Plasma Nitridation Process for Advanced CMOS Technology Application 会议论文
PROCEEDINGS OF INTERNATIONAL CONFERENCE ON ASIC, Kunming, China, October 26, 2021 - October 29, 2021
作者:  Xiaoxu Kang;  Xiaolan Zhong;  Zhangfa Chen;  Zhengkai Dao;  Qiang Zhang
Adobe PDF(2959Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：379/2  |  提交时间：2022/07/01
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