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物质科学与技术学院 [1]
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王者风 [1]
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JOURNAL OF... [1]
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Computational Study of Organotin Oxide Systems for Extreme Ultraviolet Photoresist
期刊论文
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY A, 2025, 卷号: 129, 期号: 5, 页码: 1420-1428
作者:
Adobe PDF(3285Kb)
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提交时间:2025/02/12
Carrier concentration
Europium alloys
Extreme ultraviolet lithography
Ionization potential
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Photoresists
Tin alloys
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Computational studies
Extreme ultra-violet lithographies
Extreme Ultraviolet
Organic ligands
Organotin oxide
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