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545-mA/mm E-mode Recessed-Gate GaN MOSHEMT (Vth > 4V) by Ion Beam Etching
期刊论文
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2024, 卷号: PP, 期号: 99, 页码: 1-1
作者:
Han Gao
;
Yitian Gu
;
Yu Zhang
;
Jialun Li
;
Junmin Zhou
Adobe PDF(2787Kb)
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浏览/下载:242/1
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提交时间:2024/04/16
Enhancement mode
ion beam etching
MOSHEMT
recessed-gate
normally-off
无权访问的条目
学位论文
作者:
李家纶
Adobe PDF(3846Kb)
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|
提交时间:2024/06/25
Temperature-Driven Gate Geometry Effects in Nanoscale Cryogenic MOSFETs
期刊论文
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2020, 卷号: 41, 期号: 5
作者:
Zewei Wang
;
Zhidong Tang
;
Ao Guo
;
Xin Luo
;
Chengwei Cao
Adobe PDF(567Kb)
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浏览/下载:937/21
|
提交时间:2020/03/29
Negative regulation of DNMT3A de novo DNA methylation by frequently overexpressed UHRF family proteins as a mechanism for widespread DNA hypomethylation in cancer
期刊论文
CELL DISCOVERY, 2016, 卷号: 2
作者:
Jia, Yuanhui
;
Li, Pishun
;
Fang, Lan
;
Zhu, Haijun
;
Xu, Liangliang
Adobe PDF(5421Kb)
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浏览/下载:1463/433
|
提交时间:2017/12/12
cancer
DNA
DNMT1
DNMT3A
hypomethylation
UHRF1
UHRF2
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