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MICROELECT... [2]
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Precision fabrication of diamond micro-optic elements with hybrid SiO2/Cr etching masks
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2022, 卷号: 262
作者:
Yang, Zhiqi
;
Zhu, Ruixue
;
Zhang, Kaiyu
;
Yang, Xiaowei
;
Liu, Xing
Adobe PDF(1268Kb)
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浏览/下载：137/0
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提交时间：2022/05/26
Diamong micro-optic element
Plasma etching
Dielectric etching mask
Hough line detection
Directly laser writing
Characterization of AlN and AlScN film ICP etching for micro/ nano fabrication
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2021, 卷号: 242
作者:
Luo, Zhifang
;
Shao, Shuai
;
Wu, Tao
Adobe PDF(3189Kb)
|
收藏
|
浏览/下载：468/0
|
提交时间：2021/06/04
ICP etching
Etching model
AlN
AlScN
Micro
Nano fabrication
Piezoelectric resonators
Aluminum nitride
Etching
Fabrication
III
V semiconductors
Inductively coupled plasma
Nitrides
Photoresists
Piezoelectricity
Resonators
Scandium compounds
Surface waves
AlN thin films
Aluminum nitride (AlN)
Contour
mode resonators
Lamb wave resonators
Micro /nano fabrications
Photoresist mask
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