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| 一种异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶材系统 | |
| 申请号 | CN202411869606.9 |
| 2025-03-21 | |
| 公开（公告）号 | CN119663207A |
| 公开日期 | 2025-03-21 |
| 摘要 | 本发明涉及一种异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶材系统，涉及靶材的领域，其包括铝合金支架、设于铝合金支架上的溅射系统真空腔体、设于溅射系统真空腔体上方的位移传动装置、设于溅射系统真空腔体并连接位移传动装置的异型腔磁控溅射椭球型靶系统、以及设于溅射系统真空腔体底部的外界真空泵组和真空测量设备，溅射系统真空腔体内设有椭球型的单cell超导射频腔，异型腔磁控溅射椭球型靶系统包括设于单cell超导射频腔内的椭球型铌靶材，位移传动装置与单cell超导射频腔之间连接有铜棒。本发明可以通过在射频加速腔内移动靶材，同时控制靶材的功率以及溅射时间实现均匀镀膜；靶材体积小，可以均匀放置在外加磁场线圈内。 |
| 当前权利人 | 上海科技大学 |
| 专利代理人 | 翁若莹 ; 潘军涛 |
| 代理机构 | 上海申汇专利代理有限公司 31001 |
| 专利申请人 | 上海科技大学 |
| 公开国别 | 中国 |
| 公开国别简称 | CN |
| IPC 分类号 | C23C14//35; C23C14//16; C23C14//04 |
| 专利有效性 | 审中 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 专利类型字典 | 1 |
| 当前法律状态 | 实质审查 |
| 简单同族 | CN119663207A |
| 扩展同族 | CN119663207A |
| INPADOC 同族 | CN119663207A |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/500318 |
| 专题 | 物质科学与技术学院_PI研究组_李军组 物质科学与技术学院_硕士生 物质科学与技术学院_博士生 |
| 作者单位 | 上海科技大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 董鹏,王艳江,赵洋,等. 一种异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶材系统. CN202411869606.9[P]. 2025-03-21. |
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