基于惠斯通全桥结构的隧道磁阻传感器及其制造方法
申请号CN202411950708.3
2025-03-21
公开(公告)号CN119667569A
公开日期2025-03-21
摘要本发明提出一种基于惠斯通全桥结构的隧道磁阻传感器及其制造方法,隧道磁阻传感器,包括:两个隧道磁阻单元结构,包括:重金属层;磁隧道结,重金属层上沉积形成两个磁隧道结;反铁磁层,沉积于磁隧道结的参考层表面,以固定磁隧道结的钉扎方向;两个隧道磁阻单元结构中的四个磁隧道结的钉扎方向相同,并按照惠斯通全桥结构连接,在重金属层中通入不同方向的电流,通过自旋轨道矩效应偏置磁隧道结中自由层的磁化方向,相邻的两个磁隧道结中自由层的磁化方向在XY平面内关于X轴对称。本发明的磁阻传感器灵敏度较大,线性区间较宽,通过使用自旋轨道矩而非工艺偏置磁化方向,简化了加工工艺,消除了不同工艺产生的误差,提升测量磁场的精确度。
当前权利人上海科技大学
专利代理人王海胜
代理机构上海汉之律师事务所 31378
专利申请人上海科技大学
公开国别中国
公开国别简称CN
IPC 分类号G01R33//09
专利有效性审中
专利类型发明申请
专利类型字典1
当前法律状态实质审查
简单同族CN119667569A
扩展同族CN119667569A
INPADOC 同族CN119667569A
文献类型专利
条目标识符https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/500317
专题信息科学与技术学院_PI研究组_杨雨梦组
信息科学与技术学院_硕士生
作者单位
上海科技大学
推荐引用方式
GB/T 7714
杨雨梦,张佳炜. 基于惠斯通全桥结构的隧道磁阻传感器及其制造方法. CN202411950708.3[P]. 2025-03-21.
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