一种比特交错结构下可消除半选择干扰的超低电压SRAM单元
翻译题名ULTRA-LOW VOLTAGE SRAM UNIT CAPABLE OF ELIMINATING HALF-SELECT DISTURBANCE IN BIT-INTERLEAVED STRUCTURE
申请号WOCN23082987
2024-07-04
公开(公告)号WO2024138900A1
公开日期2024-07-04
摘要

本发明的技术方案是提供了一种比特交错结构下可消除半选择干扰的超低电压SRAM单元,其特征在于,包括一组反相器环,两个N型写晶体管NM1、NM2,两个P型写晶体管PM1、PM2和两个N型晶体管NM3、NM4组成的读出路径。本发明可以被应用于超低电压有存储需求的应用中,特别是一些对于低电压下SRAM访存速度及可靠性有一定需求的应用,相比其他不同SRAM单元,在能耗相差不大的情况下,本发明可以实现更高的读写工作频率。

翻译摘要

A technical solution of the present invention provides an ultra-low voltage SRAM unit capable of eliminating half-select disturbance in a bit-interleaved structure, characterized by comprising a read path composed of a set of inverter rings, two N-type write transistors NM1 and NM2, two P-type write transistors PM1 and PM2, and two N-type transistors NM3 and NM4. The present invention can be applied to ultra-low voltage applications having storage requirements, and in particular to applications having particular requirements for SRAM access speed and the reliability at a low voltage. Compared with other SRAM units, the present invention can achieve very high read and write operating frequencies while maintaining a low energy consumption difference.

当前权利人Shanghaitech University
专利代理人上海申汇专利代理有限公司 ; Shanghai Shen Hui Patent Agent Co., Ltd.
代理机构上海申汇专利代理有限公司 ; Shanghai Shen Hui Patent Agent Co., Ltd.
专利申请人Shanghaitech University
公开国别WO
公开国别简称WO
IPC 分类号G11C11//419
专利有效性PCT-有效期内
专利类型发明申请
专利类型字典1
当前法律状态未进入国家阶段-PCT有效期内
简单同族CN116312691A; WO2024138900A1; US20240212748A1
扩展同族CN116312691A; WO2024138900A1; US20240212748A1
INPADOC 同族WO2024138900A1
文献类型专利
条目标识符https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/396010
专题信息科学与技术学院_PI研究组_哈亚军组
信息科学与技术学院_特聘教授组_陈宏宇组
信息科学与技术学院_博士生
作者单位
Shanghaitech University
推荐引用方式
GB/T 7714
Li Yifei,Chen Jian,Ha Yajun,等. 一种比特交错结构下可消除半选择干扰的超低电压SRAM单元. WOCN23082987[P]. 2024-07-04.
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