位交错结构下消除半选择干扰的超低压SRAM存储单元
翻译题名ULTRA-LOW-VOLTAGE STATIC RANDOM ACCESS MEMORY (SRAM) CELL FOR ELIMINATING HALF-SELECT DISTURBANCE UNDER BIT INTERLEAVING STRUCTURE
申请号US18233350
2024-06-27
公开(公告)号US20240212748A1
公开日期2024-06-27
摘要

一种用于消除位交错结构下的半选择干扰的超低电压静态随机存取存储器(SRAM)单元,包括交叉耦合反相器对、两个N型写入晶体管NM1和NM2、两个P型写入晶体管PM1和PM2、以及两个N型晶体管NM3和NM4,其中两个N型晶体管NM3和NM4形成读出路径。本公开可以应用于对超低电压下的存储有要求的应用,尤其是对SRAM在低电压下的访问速度和可靠性有一定要求的应用。与其他不同SRAM单元相比,超低压SRAM单元可以在能耗相似的情况下实现更高的读写工作频率。

翻译摘要

An ultra-low-voltage static random access memory (SRAM) cell for eliminating half-select-disturbance under a bit interleaving structure includes a cross-coupled inverter pair, two N-type write transistors NM1 and NM2, two P-type write transistors PM1 and PM2, and two N-type transistors NM3 and NM4, where the two N-type transistors NM3 and NM4 form a readout path. The present disclosure can be applied to applications with a storage requirement at an ultra-low voltage, especially applications with certain requirements for an access speed and reliability of an SRAM at a low voltage. Compared with other different SRAM cells, the ultra-low-voltage SRAM cell can achieve higher read and write working frequencies with similar energy consumptions.

当前权利人Shanghaitech University
专利申请人Shanghaitech University
公开国别US
公开国别简称US
IPC 分类号G11C11//419
CPC分类号G11C11//419
专利有效性审中
专利类型发明申请
专利类型字典1
当前法律状态实质审查
简单同族CN116312691A; US20240212748A1
扩展同族CN116312691A; US20240212748A1
INPADOC 同族US20240212748A1
文献类型专利
条目标识符https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/392920
专题信息科学与技术学院_PI研究组_哈亚军组
信息科学与技术学院_特聘教授组_陈宏宇组
信息科学与技术学院_博士生
作者单位
Shanghaitech University
推荐引用方式
GB/T 7714
Yifei Li,Jian Chen,Yajun Ha,等. 位交错结构下消除半选择干扰的超低压SRAM存储单元. US18233350[P]. 2024-06-27.
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