大规模铌酸锂光子集成系统的超快激光光刻研究进展

	大规模铌酸锂光子集成系统的超快激光光刻研究进展
	黄金鑫
	2023-10
发表期刊	科学通报 (IF:1.1[JCR-2023])
ISSN	0023-074X
卷号	69 期号:12 页码:1528-1539
发表状态	已发表
摘要	飞秒光刻辅助化学机械刻蚀技术（photolithography assisted chemo-mechanical etching, PLACE）实现了在薄膜铌酸锂（thin-film lithium niobate, TFLN）上高品质大规模光子集成电路（photonic integrated circuit, PIC）的制造,并推动了光子集成电路重大应用领域的持续发展,产生了一系列高性能PIC应用,诸如高Q微谐振器、低损耗波导、波导放大器、阵列波导光栅（arrayed waveguide grating, AWG）和电光（electro-optic, EO）可调谐/可编程光子器件等.针对PIC器件和光刻系统的大规模生产,本文介绍了一种超高速高分辨率激光光刻制造系统,采用高重复频率飞秒激光器和高速多边形激光扫描仪,可实现200 nm分辨率下4.8 cm2/h的光刻制造效率,并且展示了基于TFLN光子器件的晶圆级制造、晶圆级微电极结构等的应用.
关键词	薄膜铌酸锂光子集成电路光刻飞秒激光微加工
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收录类别	北大核心 ; CSCD
语种	中文
原始文献类型	学术期刊
来源库	CNKI
中图分类号	TN405
文献类型	期刊论文
条目标识符	https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/359975
专题	物质科学与技术学院_硕士生
推荐引用方式 GB/T 7714	黄金鑫. 大规模铌酸锂光子集成系统的超快激光光刻研究进展[J]. 科学通报,2023,69(12):1528-1539.
APA	黄金鑫.(2023).大规模铌酸锂光子集成系统的超快激光光刻研究进展.科学通报,69(12),1528-1539.
MLA	黄金鑫."大规模铌酸锂光子集成系统的超快激光光刻研究进展".科学通报 69.12(2023):1528-1539.