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一种光刻胶精密显影系统、显影方法及存储介质 | |
申请号 | CN202310803231.5 |
2023-10-13 | |
公开(公告)号 | CN116880138A |
公开日期 | 2023-10-13 |
摘要 | 本发明提供一种光刻胶精密显影系统、显影方法及存储介质,光刻胶精密显影系统包括固定架和承载台,狭缝涂头以及狭缝涂头的X‑Y向运动控制装置,超声喷头以及超声喷头的Y向运动控制装置,液体控制装置;本发明光刻胶精密显影系统的显影方法使用狭缝涂布+超声矩阵化方式的来进行精密显影,可以精度控制显影液厚度均匀性达到3%以内、量化显影图案与显影液关系,实现了节约显影液用量、增加了显影均匀性、减少缺陷几率、提高图案精细化。 |
当前权利人 | 上海科技大学 |
专利代理人 | 许亦琳 ; 余明伟 |
代理机构 | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 |
专利申请人 | 上海科技大学 |
公开国别 | CN |
公开国别简称 | CN |
IPC 分类号 | G03F7//30 |
专利有效性 | 审中 |
专利类型 | 发明申请 |
专利类型字典 | 1 |
当前法律状态 | 实质审查 |
简单同族 | CN116880138A |
扩展同族 | CN116880138A |
INPADOC 同族 | CN116880138A |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/335614 |
专题 | 材料器件中心 物质科学与技术学院 物质科学与技术学院_特聘教授组_陆卫组 |
作者单位 | 上海科技大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王镜喆,宋艳汝,彭鹏飞,等. 一种光刻胶精密显影系统、显影方法及存储介质. CN202310803231.5[P]. 2023-10-13. |
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