一种光刻胶精密显影系统、显影方法及存储介质
申请号CN202310803231.5
2023-10-13
公开(公告)号CN116880138A
公开日期2023-10-13
摘要

本发明提供一种光刻胶精密显影系统、显影方法及存储介质,光刻胶精密显影系统包括固定架和承载台,狭缝涂头以及狭缝涂头的X‑Y向运动控制装置,超声喷头以及超声喷头的Y向运动控制装置,液体控制装置;本发明光刻胶精密显影系统的显影方法使用狭缝涂布+超声矩阵化方式的来进行精密显影,可以精度控制显影液厚度均匀性达到3%以内、量化显影图案与显影液关系,实现了节约显影液用量、增加了显影均匀性、减少缺陷几率、提高图案精细化。

当前权利人上海科技大学
专利代理人许亦琳 ; 余明伟
代理机构上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
专利申请人上海科技大学
公开国别CN
公开国别简称CN
IPC 分类号G03F7//30
专利有效性审中
专利类型发明申请
专利类型字典1
当前法律状态实质审查
简单同族CN116880138A
扩展同族CN116880138A
INPADOC 同族CN116880138A
文献类型专利
条目标识符https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/335614
专题材料器件中心
物质科学与技术学院
物质科学与技术学院_特聘教授组_陆卫组
作者单位
上海科技大学
推荐引用方式
GB/T 7714
王镜喆,宋艳汝,彭鹏飞,等. 一种光刻胶精密显影系统、显影方法及存储介质. CN202310803231.5[P]. 2023-10-13.
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