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	Effect of post-deposition annealing on atomic layer deposited SiO2 film for silicon surface passivation 期刊论文 MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2020, 卷号: 106 作者: Li, Shizheng; Xu, Jiahui; Wang, Liangxing; Yang, Ning; Ye, Xiaojun Adobe PDF(1189Kb) \| 收藏 \| 浏览/下载：340/10 \| 提交时间：2019/11/22 Atomic layer deposition Silicon dioxide Surface passivation Positive fixed charge
	Plasma-induced damage and annealing repairing in ALD-Al2O3/PECVD-SiNx stacks 期刊论文 MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2019, 卷号: 100, 页码: 214-219 作者: Li, Shizheng; Yang, Ning; Yuan, Xiao; ye, Xiaojun; Wang, Liangxing Adobe PDF(2081Kb) \| 收藏 \| 浏览/下载：360/11 \| 提交时间：2019/07/01 Silicon passivation Atomic layer deposition Al2O3 Interface defect density Plasma-enhanced chemical vapor deposition Solar cells

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