Quantum Capacitance in Topological Insulators
2012
发表期刊SCIENTIFIC REPORTS
ISSN2045-2322
卷号2页码:-
发表状态已发表
DOI10.1038/srep00669
学科领域MULTIDISCIPLINARY SCIENCES
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收录类别SCI
语种英语
WOS记录号WOS:000308863700002
出版者NATURE PUBLISHING GROUP
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文献类型期刊论文
条目标识符https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/1241
专题个人在本单位外知识产出
作者单位
1.Iowa State Univ, Dept Elect & Comp Engn, Ames, IA 50011 USA
2.Univ Calif Los Angeles, Dept Elect Engn, Los Angeles, CA 90095 USA
3.Zhejiang Univ, State Key Lab Silicon Mat, Hangzhou 310027, Peoples R China
4.Zhejiang Univ, Dept Mat Sci & Engn, Ctr Electron Microscopy, Hangzhou 310027, Peoples R China
5.Univ Calif Berkeley, Lawrence Berkeley Natl Lab, Adv Light Source Div, Berkeley, CA 94720 USA
6.Univ Queensland, Ctr Microcopy & Microanal, Brisbane, Qld 4072, Australia
推荐引用方式
GB/T 7714
Xiu, Faxian,Meyer, Nicholas,Kou, Xufeng,et al. Quantum Capacitance in Topological Insulators[J]. SCIENTIFIC REPORTS,2012,2:-.
APA Xiu, Faxian.,Meyer, Nicholas.,Kou, Xufeng.,He, Liang.,Lang, Murong.,...&Wang, Kang L..(2012).Quantum Capacitance in Topological Insulators.SCIENTIFIC REPORTS,2,-.
MLA Xiu, Faxian,et al."Quantum Capacitance in Topological Insulators".SCIENTIFIC REPORTS 2(2012):-.
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