阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响

doi:10.3788/CJL201744.1203001

	阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响
	刘伯勋1,2,3 ; 焦翔 2,3; 谭小红 2,3; 朱健强1,2,3
	2020-09
发表期刊	中国激光
ISSN	0258-7025
卷号	47 期号:09 页码:0903002
发表状态	正式接收
DOI	10.3788/CJL201744.1203001
摘要	为了改善氧化铈抛光液的性能，在不破坏钕玻璃表面质量的前提下提高钕玻璃的抛光效率，选择在氧化铈抛光液中加入阴离子表面活性剂雷米邦 a。本文研究了改性后的抛光液对氧化铈抛光液中粒子粒径、钕玻璃的材料去除率和抛光后钕玻璃表面质量的影响，研究了加入不同质量分数雷米邦 a 的抛光液在不同 pH 值下对钕玻璃抛光速率和抛光质量的影响。结果表明：雷米邦 a 能够抑制抛光液中纳米粒子的团聚，降低氧化铈的中位粒径，提高抛光效率。当二氧化铈质量分数为 3%，pH 为 6.5、雷米邦 a 用量为 0.30%wt 时材料去除率达到最大值169nm/min；pH为7、雷米邦a用量为0.20%wt时钕玻璃的表面粗糙度达到最小值0.9nm；
关键词	材料化学机械抛光磷酸盐激光钕玻璃阴离子表面活性剂材料去除率表面粗糙度
学科门类	工学::光学工程
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收录类别	EI ; 北大核心 ; CSCD
语种	中文
出版者	Science Press
EI入藏号	20181104898809
EI主题词	Agglomeration ; Anionic surfactants ; Cerium compounds ; Dispersions ; Materials ; Optical glass ; Optical properties ; Surface active agents ; Surface properties ; Surface roughness
EI分类号	Machining Operations:604.2 ; Light/Optics:741.1 ; Optical Devices and Systems:741.3 ; Chemical Operations:802.3 ; Chemical Agents and Basic Industrial Chemicals:803 ; Physical Properties of Gases, Liquids and Solids:931.2 ; Materials Science:951
原始文献类型	Journal article (JA)
文献类型	期刊论文
条目标识符	https://kms.shanghaitech.edu.cn/handle/2MSLDSTB/121759
专题	物质科学与技术学院_特聘教授组_朱健强组物质科学与技术学院_硕士生
通讯作者	朱健强
作者单位	1.上海科技大学物质科学与技术学院 2.上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室 3.中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室
第一作者单位	物质科学与技术学院
通讯作者单位	物质科学与技术学院
第一作者的第一单位	物质科学与技术学院
推荐引用方式 GB/T 7714	刘伯勋,焦翔,谭小红,等. 阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响[J]. 中国激光,2020,47(09):0903002.
APA	刘伯勋,焦翔,谭小红,&朱健强.(2020).阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响.中国激光,47(09),0903002.
MLA	刘伯勋,et al."阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响".中国激光 47.09(2020):0903002.